极紫外相关论文
光刻工艺随集成电路的发展成为核心环节，被誉为集成电路制造这顶皇冠上最耀眼的明珠。而光刻技术离不开其辅助材料光刻胶，每一代光刻......
在针对芯片的“卡脖子”技术中，极紫外（EUV）光刻是最重要的一环。EUV光刻技术已经被广泛应用于最先进工艺节点的集成电路（IC）芯片制造之......
从化学元素、分子结构、光化学性能等方面，系统综述了7 nm分辨率极紫外光刻胶研究和应用新进展，展望了未来发展的方向、机遇与挑战。......
在Z-箍缩丝阵驱动的动态黑腔实验中,黑腔光谱诊断可以评估动态黑腔辐射功率,辐射产额以及辐射温度等重要参数。核物理与化学研究所......
单色仪作为一种重要的光谱分析和测量仪器,被广泛应用于等离子体光谱诊断、光学元件和仪器的定标实验中1.为了提供一种波长连续可......
绝大多数原子、分子以及自由基的电离能集中在10ev附近，对应的光波波长在极紫外波段。因此获得高品质的极紫外激光可以实现它们的高......
为了提高对太阳活动等离子体运动速度探测的准确性,基于新型极紫外无缝成像光谱仪的五级次光谱成像设计,利用计算机断层成像和无缝......
The strong absorption of materials in the extreme ultraviolet (EUV) above ~50 nm has precluded the development of effici......
We fabricate and measure a multilayer-coated ion-beam-etched laminar grating for the extreme ultraviolet wavelength regi......
极紫外光刻(EUVL)技术是目前193 nm浸没式光刻技术的延伸,有望突破30 nm或更小技术节点而成为下一代光刻(NGL)技术的主流。毛细管......
Aperiodic molybdenum/silicon (Mo/Si) multilayer designed as a broadband reflective mirror with mean reflectivity of 10% ......
研究了极紫外宽带多层膜偏振光学元件,包括反射式检偏器与透射式相移片.基于Mo/Si非周期多层膜结构,采用解析与数值优化相结合的方......
实验研究了放电频率、电脉冲能量、碎屑缓冲气体流量等极紫外光源参数对极紫外辐照损伤测试系统聚焦光束性能的影响。测试结果表明......
薄膜沉积是滤片制备过程中的核心环节,优化薄膜沉积工艺对于提高薄膜滤片的稳定性具有重要意义。本课题组采用脉冲直流磁控溅射工......
极紫外光刻技术作为下一代光刻技术,被行业赋予了拯救摩尔定律的使命。极紫外光刻胶是极紫外光刻技术的核心子技术之一,其分辨率、......
研究了极紫外宽带多层膜偏振光学元件,包括反射式检偏器与透射式相移片.基于Mo/Si非周期多层膜结构,采用解析与数值优化相结合的方......
McPherson公司发布了一款X射线极紫外（EUV）光谱仪：251MX，波长测量范围为0．6—20nm（60—2000eV）......
一台设备被设计并且集合了分析分子的玻璃(MG ) 除去在极端下面的光致抗蚀剂紫外(EUV ) 暴露。与不同部件和 tert-butoxycarbonyl ......
阐述了50～110 nm强吸收波段亚四分之一波长多层膜的设计方法.这种膜系是由强吸收材料叠加而成,每层膜光学厚度小于四分之一个波长.......
太阳的剧烈爆发活动,如日冕物质抛射、耀斑等产生的等离子体会对空间环境产生剧烈扰动,严重时甚至造成人员伤亡,所以对太阳活动进......
高能电磁辐射在介质表面的反射效率通常非常低,通过仿生龙虾眼睛的球形微孔结构,在微孔两个相互垂直的内壁表面形成掠入射聚焦成像......
在极紫外(EUV,5～40 nm)波段,由于光子能量已经大于大多数材料的带隙宽度,因而材料都表现出强烈的吸收性能。纳米级多层(ML)技术,通......
介绍了在极紫外波段 ,利用帽层材料来减少多层膜反射镜因外部环境干扰而造成的反射率降低 ,使多层膜光学元件能够长时间稳定工作 .......
阐述了50~110nm强吸收波段亚四分之一波长多层膜的设计方法.这种膜系是由强吸收材料叠加而成,每层膜光学厚度小于四分之一个波长.......
自由电子激光被称为第4代先进光源,是帮助人类探索物质微观世界的最先进的研究工具,在能源、物理、化学、材料、生物等多个学科领......
利用压强升高法建立了极紫外(Extreme ultraviolet,EUV)光刻胶产气检测系统,对以分子玻璃(Molecular glass)螺芴(9,9'-Spirobifluo......
在地球周围包裹着一层等离子层，它的厚度约为地球半径的10倍。其主要成分是H2，N2，He，O等原子或分子。由He+粒子谐振散射产生的波长......
2000 年IMAGE 利用极紫外成像方法，对等离子体层进行成像探测，使等离子体层的探测研究从就地观测进入到利用成像方法的新一个阶段，并......
文章从太阳极紫外辐射研究的意义出发,介绍了太阳极紫外辐射E10.7指数的物理意义及计算方法,并利用该方法计算了获得了15年的每日E......
超短超强激光与稀有气体相互作用产生高次谐波获取亚飞秒脉冲是近年来超短超快光学的研究热点之一，具有谐波选择和啁啾补偿作用的极......
本文首先介绍了极紫外与软X射线多层膜光学技术的研究意义和主要进展。然后，给出作者在软X射线多层膜分束镜和X射线超反射镜方面的......
全面介绍了国际上著名的极紫外和x射线实验室定标测试试验装置的基本特点和技术指标，并简要介绍了国内正在建造的满足太阳X-EUV成像......
近年来，随着极紫外/软X射线(EUV/SXR)多层膜技术的不断发展，多层膜反射镜已被应用在极紫外投影光刻、等离子体诊断等方面。但随之也......
地球磁层作为保护地球免受太阳活动影响的一道天然屏障，它的分布变化直接影响到人类大多数的航天活动以及无线电通讯等，而磁场的对流......
当物理学家探测和控制尺度越来越小的现象时,对极紫外(10～100 nm)和软X射线(1～30 nm)光谱区相干辐射源的要求便越来越大.例如半导体......
X射线光刻技术(XRL)是刻制130nm,100nm和70nm最小尺寸图形的可行方案之一.其它候选技术还有193nmArF准分子激光光刻、电子束投影、......
南京电子器件研究所近期研制成功的氮化镓(GaN)阴极紫外光电倍增管,采用MOCVD方式外延生长的蓝宝石/AlN/P-AlGaN异质外延结构作为......
